华人网本篇文章490字，读完约1分钟
2月12日，据香港《文报告》报道，美国专利商标局( uspto )昨天公布了本年度入选“全国发明家殿堂”的名单，华裔电机工程师卓以和与其他14名幸存者或已故科学家一起一齐登上殿堂。
现年72岁的卓以和被誉为“分子束外延技术之父”，他发明的半导体材料被广泛应用于手机、cd、dvd播放器等产品，他获奖。
美国的“全国发明家名人堂”是1973年由公共机构uspto和美国知识产权法协会设立的，今年包括10名在世者和5名已故入选者在内，404名发明家成功进入名人堂。 过去也有包括“电脑大王”王安在内的其他中国人被选为殿堂。
卓和1937年出生于北京，1949年来港，上过培正中学。 1955年赴美留学，1968年获得伊利诺伊大学博士学位，现在是美国贝尔研究所半导体研究所的副所长。 1985年当选美国科学院院士，1996年当选中国科学院外籍院士。 1993年被授予美国科学家最高荣誉的国家科学奖。
卓以和是国际公认的分子束外延、人工微结构材料的成长和新型器件研究行业的创始人和开拓者。 他的新材料成功开发了十多种极其重要且性能优良的新型微波高速电子设备和光电子设备，多次领先同事。
标题：【要闻】华裔电机工程学家卓以和登“美国发明家名人堂”——
地址：http://www.huarenwang.vip/new/20210604/3454.html
